Descripción
La estufa de vacío avanzada está diseñada para aplicaciones de laboratorio que requieren un control térmico preciso, un entorno libre de oxidación y una mayor trazabilidad de los procesos. Su funcionamiento bajo vacío permite reducir la temperatura de ebullición de líquidos y disolventes, favoreciendo un secado eficiente de materiales sensibles al calor y mejorando la conservación de las propiedades de las muestras.
Equipada con una pantalla táctil TFT LCD de 5 pulgadas, ofrece una interfaz intuitiva para configurar los parámetros de funcionamiento, supervisar el proceso en tiempo real y acceder a funciones avanzadas como el registro de eventos, la calibración de temperatura y el control automático mediante microprocesador PID. Estas prestaciones la convierten en una solución idónea para laboratorios de investigación, control de calidad, industria farmacéutica, química, electrónica y ciencia de materiales.
Su cámara interior de acero inoxidable, el amplio visor de vidrio templado y las juntas de silicona resistentes a altas temperaturas garantizan un funcionamiento fiable incluso en aplicaciones exigentes. Además, incorpora múltiples sistemas de seguridad y opciones de comunicación para facilitar la integración del equipo en entornos de laboratorio modernos.
Características principales
- Temperatura de trabajo desde ambiente +15 °C hasta 250 °C.
- Pantalla TFT LCD táctil de 5 pulgadas.
- Control mediante microprocesador PID de alta precisión.
- Cámara interior fabricada en acero inoxidable resistente a la corrosión.
- Uniformidad térmica de ±1,5 °C a 100 °C.
- Estabilidad de temperatura de ±0,2 °C a 100 °C.
- Registro de hasta 36 eventos para facilitar la trazabilidad de los procesos.
- Función de autoajuste (Auto-Tuning) del controlador PID.
- Calibración de temperatura en varios puntos.
- Temporizador programable.
- Programación de funcionamiento automático.
- Vacuómetro analógico integrado.
- Puerto para vacío y entrada de gas inerte.
- Comunicación mediante USB y RS-232.
- Compatible con software de monitorización y gestión de datos (opcional).
- Protección contra sobretemperatura y alarmas de seguridad.
- Amplia ventana de observación de vidrio templado.
Especificaciones técnicas
| Característica | Especificación |
|---|---|
| Tipo de equipo | Estufa de vacío |
| Rango de temperatura | Ambiente +15 °C a 250 °C |
| Estabilidad a 100 °C | ±0,2 °C |
| Uniformidad a 100 °C | ±1,5 °C |
| Controlador | Microprocesador PID |
| Pantalla | TFT LCD táctil de 5″ |
| Sensor | PT100 |
| Vacío | 0,0 ~ 0,1 MPa |
| Material interior | Acero inoxidable |
| Material exterior | Acero con recubrimiento epoxi |
| Aislamiento | Lana cerámica |
| Junta de puerta | Silicona resistente al calor |
| Interfaces | USB, RS-232 |
| Registro de eventos | Hasta 36 eventos |
Modelos disponibles
| Modelo | Capacidad | Dimensiones internas (An × F × Al) | Potencia |
|---|---|---|---|
| OV4-30 | 28 L | 302 × 305 × 302 mm | 1220 W |
| OV4-65 | 65 L | 402 × 405 × 402 mm | 1400 W |
Equipamiento incluido
- Bandejas de aluminio.
- Vacuómetro analógico.
- Pantalla TFT LCD táctil de 5 pulgadas.
- Puerto de vacío.
- Puerto para gas inerte.
- Cable de alimentación.
- Manual de usuario.
Ventajas
- Control térmico preciso mediante PID.
- Pantalla táctil de gran formato para una operación más intuitiva.
- Registro de eventos para una mayor trazabilidad de los procesos.
- Excelente estabilidad y uniformidad de temperatura.
- Secado eficiente de materiales sensibles al calor.
- Reducción del riesgo de oxidación durante el proceso.
- Cámara de acero inoxidable de fácil limpieza.
- Integración con sistemas de gestión de datos mediante interfaces de comunicación.