Descripción
La estufa de vacío digital está diseñada para procesos de secado, calentamiento y tratamiento térmico de muestras sensibles al calor o a la oxidación. Gracias al trabajo en condiciones de vacío, permite reducir la temperatura de evaporación de los disolventes y minimizar la degradación de materiales, siendo una solución ideal para laboratorios de investigación, control de calidad, universidades, industria farmacéutica, química y de materiales.
Su cámara de acero inoxidable de alta resistencia, el control mediante microprocesador PID y la distribución uniforme de la temperatura garantizan resultados repetibles y un funcionamiento estable durante todo el proceso. El amplio visor de vidrio templado permite supervisar las muestras sin necesidad de abrir la puerta, preservando las condiciones internas del equipo.
La interfaz TFT LCD de 3,5 pulgadas facilita la configuración de los parámetros de trabajo e incorpora funciones como autoajuste PID, temporizador, calibración de temperatura y ejecución automática, proporcionando un manejo sencillo y preciso para aplicaciones de laboratorio.
Características principales
- Temperatura de trabajo desde ambiente +15 °C hasta 250 °C.
- Control mediante microprocesador PID para una elevada estabilidad térmica.
- Pantalla TFT LCD de 3,5 pulgadas de fácil lectura.
- Cámara interior fabricada en acero inoxidable resistente a la corrosión.
- Uniformidad térmica de ±1,5 °C a 100 °C.
- Estabilidad de temperatura de ±0,2 °C a 100 °C.
- Vacuómetro analógico integrado.
- Ventana de observación con vidrio templado de alta resistencia.
- Juntas de silicona resistentes a altas temperaturas para mantener el vacío.
- Función Auto-Tuning del controlador PID.
- Calibración de temperatura en tres puntos.
- Temporizador programable de hasta 99 h 59 min.
- Función de inicio automático (Auto Run).
- Comunicación mediante USB y RS-232.
- Sistema de protección contra sobretemperatura.
- Compatible con la introducción de gases inertes mediante las conexiones del equipo.
Especificaciones técnicas
| Característica | Especificación |
|---|---|
| Tipo de equipo | Estufa de vacío |
| Rango de temperatura | Ambiente +15 °C a 250 °C |
| Estabilidad a 100 °C | ±0,2 °C |
| Uniformidad a 100 °C | ±1,5 °C |
| Controlador | Microprocesador PID |
| Sensor | PT100 |
| Pantalla | TFT LCD 3,5″ |
| Vacío | 0,0 ~ 0,1 MPa |
| Material interior | Acero inoxidable |
| Material exterior | Acero con recubrimiento epoxi |
| Aislamiento | Lana cerámica |
| Junta de puerta | Silicona resistente al calor |
| Temporizador | 99 h 59 min |
| Interfaces | USB, RS-232 |
Modelos disponibles
| Modelo | Capacidad | Dimensiones internas (An × F × Al) | Potencia |
|---|---|---|---|
| OV4-30S | 28 L | 302 × 305 × 302 mm | 1220 W |
| OV4-65S | 65 L | 402 × 405 × 402 mm | 1400 W |
Equipamiento incluido
- Bandejas de aluminio.
- Vacuómetro analógico.
- Puerto de vacío.
- Puerto de ventilación.
- Pantalla TFT LCD.
- Cable de alimentación.
- Manual de usuario.
Ventajas
- Excelente uniformidad térmica.
- Menor riesgo de oxidación de las muestras.
- Secado eficiente a temperaturas reducidas.
- Construcción robusta para uso intensivo.
- Control preciso de temperatura.
- Fácil limpieza gracias a la cámara de acero inoxidable.
- Supervisión visual durante todo el proceso.
- Comunicación con ordenador mediante USB y RS-232.